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PHMRF-100P磁流變拋光機床

設(shè)備用途
本設(shè)備主要應(yīng)用于高精度光學玻璃、石英玻璃、藍寶石晶體材料，陶瓷材料，半導體晶片等硬脆性元件的精密研磨拋光。

設(shè)備簡介
     機床的環(huán)性非導磁研拋盤采用高密度樹脂組成，具有運行平穩(wěn)不變形、無沖擊、噪音低的特點，環(huán)形研拋盤對稱分布二到四軸工件夾持裝置，Z軸進給方向采用獨立伺服進給，精確控制每個拋光軸的拋光間隙。工件自轉(zhuǎn)采用高速伺服驅(qū)動，研拋盤驅(qū)動采用高精度行星減速機驅(qū)動。

     本機床的磁場發(fā)生裝置采用高導磁材料設(shè)計。磁極各發(fā)生器設(shè)計成可拆分防結(jié)構(gòu)，根據(jù)不同工件的研拋特點，可改變磁極的形狀以適應(yīng)工件拋光的工藝改變。通過調(diào)節(jié)磁場和發(fā)生器的電流從而控制磁流變液的剪切力。磁場發(fā)生器采用內(nèi)置銅管水冷設(shè)計，可有效控制裝置的升溫引起磁場變化而影響磁流變液的拋光穩(wěn)定性。

     機床配有專用的磁流變液循環(huán)裝置，引用回收裝置將從拋光區(qū)域的磁流變液進行回收處理。能夠始終保持磁流變也的成分均勻及溫度穩(wěn)定，從而保證磁流變拋光在一定的工況下，保持最佳的拋光效果。

     磁流變液采用輝碟公司菲博士® PHMW-W01A型水基磁流變液及PHMW-OL01A油基磁流變拋光液，根據(jù)不同工件材質(zhì)不同選用不同的磁流變液。

     與傳統(tǒng)的超精密加工相比，PHMRF-100P磁流變拋光機床能夠獲得質(zhì)量較高的光學表面。能夠獲得比較復雜的表面形狀，通過控制磁場發(fā)生器的電流來控制切削去除量的大小。不會存在刀具磨損，堵塞現(xiàn)象，在可控磁場的作用下，刀具形狀誤差及刀具運動的振動誤差，摩擦誤差等在磁流變拋光中對加工精度影響極小。

PHMRF-100P磁流變拋光機床技術(shù)參數(shù)